WEKO3
アイテム
RF反応性スパッタリングによるCNｘ膜形成における摩擦特性に及ぼすスパッタガスの影響
https://cit.repo.nii.ac.jp/records/74
https://cit.repo.nii.ac.jp/records/74d729ae43-fa27-4e11-927e-17535afb832c
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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01坂本幸弘先生 (946.1 kB)
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| Item type | 紀要論文_JAIRO Cloud（WEKO3）対応_56aaa311(1) | |||||
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| 公開日 | 2014-12-25 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | RF反応性スパッタリングによるCNｘ膜形成における摩擦特性に及ぼすスパッタガスの影響 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Effects of spattering gas on the friction property of CNｘ films prepared by RF reactive sputtering | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | CNx,Ramen specroscopy，nano-indention,friction test, RF sputtering | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 著者 |
坂本, 幸弘
× 坂本, 幸弘× 城谷, 友保× 斎藤, 邦夫× 川名, 淳雄 |
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| 書誌情報 |
千葉工業大学研究報告 en : Report of Chiba Insitute of Technology 巻 62, p. 9-14, 発行日 2015-01-01 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | Chiba Institute of Technology | |||||
